Китаю знадобиться приблизно 15 років, аби створити власні передові системи екстремальної ультрафіолетової літографії (EUV) для виробництва найсучасніших мікросхем. Таку оцінку озвучив керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Group Франк Ромунд в ефірі Bloomberg TV.
За словами Ромунда, оцінка у півтора десятиліття є «обґрунтованим припущенням», хоча реальний темп прогресу Пекіна важко оцінити. Zeiss є ексклюзивним постачальником оптики для EUV-систем нідерландської ASML Holding NV, яка залишається єдиним у світі виробником такого обладнання. Ці системи є критично важливими для створення чипів, що використовуються у прискорювачах штучного інтелекту.
Ромунд додав, що Китай десятиліттями працював над системами глибокої ультрафіолетової (DUV) літографії і досяг певних успіхів. «Це насправді не є несподіванкою, і тепер нам треба подивитися, на що дійсно здатне це обладнання», — зазначив він. Водночас він наголосив: «Ми все ще далеко попереду».
Наразі компоненти Zeiss використовуються для виробництва близько 80% мікросхем у світі. Щоб задовольнити глобальний попит, компанія розширила свою штаб-квартиру в Оберкохені та збільшила виробничі потужності.
Оцінка Ромунда з'явилася після публікації звіту аналітиків швейцарського банку UBS. Експерти дійшли висновку, що Китаю, ймовірно, знадобиться ще щонайменше десять років для розробки власної технології EUV.
Технології виробництва мікросхем стали ключовим об'єктом санкційних зусиль Сполучених Штатів. Вашингтон прагне обмежити здатність Китаю створювати найсучасніші чипи для навчання передових моделей штучного інтелекту. У 2018-2019 роках уряд Нідерландів під тиском США заблокував експорт до Китаю передових EUV-систем ASML.
У жовтні 2022 року Сполучені Штати посилили тиск на китайський напівпровідниковий сектор, заборонивши експорт провідного обладнання всім китайським виробникам логічних мікросхем. Наприкінці 2023 та на початку 2024 років експортні обмеження розширилися. Нідерланди заборонили компанії ASML постачати до КНР навіть частину менш сучасного обладнання на базі DUV-літографії.
